Intelプロセッサはどこで製造されていますか?

インテルの製造工場が現在、技術機器の面で世界をリードする工場の1つであることは周知の事実です。 厳しいチェリャビンスク製管工場とどのように違いますか? 見てみましょう。



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3 xイースターエッグ



この記事は、プロセッサの生産のために独自の工場を建設したい人に主に役立つかもしれません-そのような考えが少なくとも一度あなたに起こったなら、記事をブックマークしてください;)
...さまざまな直径のパイプを生産するための新しい工場がチェリャビンスクに開設されました。 さまざまな直径の最初のパイプはすでに組立ラインを離れています...
関連する規模を理解するために、「 プロセッサの生産の難しさ 」というタイトルの前の記事を読むことをお勧めします。 工場自体の規模ではなく(規模も)、生産自体の規模を理解することが重要です。最新のプロセッサーの「詳細」の一部は、文字通り原子レベルで作成されます。 したがって、ここでのアプローチは特別です。



生産中の植物なしではできないことは明らかです。 現在、Intelには32nmテクノロジーを使用したプロセッサの大量生産が可能な4つの工場があります。オレゴンのD1DD1C 、アリゾナのFab 32 、ニューメキシコのFab 11Xです。



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工場出荷時のデバイス

300 mmシリコンウエハーでのプロセッサの製造のための各インテル工場の高さは21メートルで、面積は10万平方メートルに達します。 工場の建物には4つの主要なレベルがあります。



画像 換気システムレベル

マイクロプロセッサは数百万個のトランジスタで構成されています-シリコンウエハー上に現れるごく小さな塵が数千個のトランジスタを破壊します。 したがって、マイクロプロセッサーの生産で最も重要な条件は、施設の無菌清浄度です。 換気システムのレベルは最上階にあります-100%の空気浄化を実行し、生産室の温度と湿度を制御する特別なシステムがあります。 いわゆる「クリーンルーム」はクラスに分割され(単位体積あたりのダスト粒子の数に応じて)、最も多く(クラス1)は外科手術室よりも約1000倍クリーンです。 振動をなくすために、クリーンルームは独自の防振基盤の上にあります。



画像 クリーンルームレベル

床はいくつかのフットボール競技場のエリアをカバーしています-これはマイクロプロセッサが作られる場所です。 特別な自動化システムがプレートをある生産ステーションから別の生産ステーションに移動します。 浄化された空気は、天井にある換気システムから供給され、床にある特別な開口部から排出されます。

部屋の無菌性に対する要件の増加に加えて、そこで働く従業員は「清潔」でなければなりません-専門家はこのレベルでのみ、テキスタイルのほこり、髪の毛、肌の粒子の微粒子からシリコンウェーハを保護する滅菌スーツで作業します。 このコスチュームは「バニースーツ」と呼ばれます-初めて着るのに30〜40分かかります。 これを行うには、会社の専門家が約5分必要です。



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画像 下位レベル

工場の運転をサポートするシステム用に設計されています(ポンプ、変圧器、電源キャビネットなど)。 大型パイプ(チャネル)は、さまざまな技術ガス、液体、排気を伝達します。 このレベルの従業員のオーバーオールには、ヘルメット、安全メガネ、手袋、特別な靴が含まれます。



画像 工学レベル

意図したとおり、これは下位レベルの続きです。 エネルギー生産用の電気パネル、パイプラインとダクトのシステム、エアコンとコンプレッサーがあります。
ダスト -有機または鉱物起源の小さな固体。 ダストは、平均直径が0.005 mm、最大が0.1 mmの粒子です。 より大きな粒子は、材料を砂の排出に変換します。砂のサイズは0.1〜1 mmです。 湿気の影響下で、ほこりは通常汚れに変わります。



興味深い事実

•閉じた窓でしっかりとロックされたアパートでは、床の1平方センチメートルあたり約12,000のほこり粒子と家具の水平面が2週間で落ち着きます。 このダストには、35%の鉱物粒子、12%の繊維と紙の繊維、19%の皮膚フレーク、7%の花の花粉、3%のすすと煙の粒子が含まれています。 残りの24%は原因不明です。

•1ヘクタールの芝生が60トンの塵を結合すると推定されています。
このレベルの工場を建設するには約3年と約50億ドルかかります。これは、工場が今後4年間で「打ち負かさなければならない」量です(新しい技術プロセスとアーキテクチャが登場するまでに、これに必要な生産性は約100枚の実用シリコンウェーハです時間)。 これらの数値の後に顔の筋肉が1つも折り返されていない場合は、ここで(予算の調整が済んでいる)よりおおよその統計情報が得られます。 プラントを建設するには以下が必要です:

-19,000トン以上の鋼

-112,000立方メートルを超えるコンクリート

-900キロメートル以上のケーブル



会社の工場の1つを構築する視覚的プロセス(HDであふれる):







Intel Copy Exactly

ほとんどの半導体電子機器メーカーは、製品自体の生産のために工場で使用されるものとは異なる研究開発研究所で使用される機器とプロセスを持っています。 この点で、問題が発生します-パイロット生産から大量生産に切り替えると、技術プロセスを洗練して適応させる必要があるため、予期しない状況やその他の遅延がしばしば発生します-一般に、製品収率の最高の割合を達成するためにあらゆることを行います。 大量生産の遅れに加えて、これは他の問題を引き起こす可能性があります-少なくともプロセスパラメータの値の変更。 したがって、結果は予測できません。

Intelは、この状況でCopy Exactlyと呼ばれる独自のアプローチを持っています。 この技術の本質は、実験室の条件を建設中の工場に完全にコピーすることです。 建物自体(建設、機器と設定、配管システム、クリーンルーム、壁の塗装)だけでなく、プロセスの入力/出力パラメーター(500を超える!)、原材料のサプライヤー、さらには人材育成方法まで、すべてが細部まで繰り返されます。 これにより、工場は発売後すぐに全力で働くことができますが、これは大きなプラスにはなりません。 このアプローチのおかげで、工場には大きな柔軟性があります。事故や再編成が発生した場合、あるプラントで開始されたプレートは、ビジネスに大きな損害を与えることなく、すぐに別のプラントで「継続」できます。 このアプローチは競合企業に高く評価されましたが、何らかの理由で実際には誰も使用していません。



すでに述べたように、インテルはモスクワ工科大学のコンピューター室で、会場内で最大規模の展示会を開きました。 スタンドは「 砂からプロセッサまで 」と呼ばれ、かなり有益なデザインです。



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ホールの先頭にあるのは、企業の工場で使用されている衣装の正確なコピーの「チップマン」です。 次-工場の1つのモデル。 近くには、「異なる段階のプロセッサー」であるスタンドがあります-酸化ケイ素、シリコンウェーハ、プロセッサー自体など。 これらすべてには大量の情報が提供されており、誰でもプロセッサデバイスを見ることができるインタラクティブなスタンドでサポートされています(スケールスライダーを分子構造まで動かすことで)。 根拠がないようにするために、露出の写真を以下に示します。



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月曜日には、プロセッサの生産に関する記事があります。 それまでの間、椅子に座って次のビデオ(できればHD)をご覧ください。







頑張って!



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