चिप कूलिंग की सेवा में आयन हवा

उत्तरी अमेरिकी राज्य इंडियाना के पर्ड्यू विश्वविद्यालय के शोधकर्ताओं ने कंप्यूटर कूलिंग सिस्टम की दक्षता में सुधार के लिए एक आशाजनक तरीका विकसित किया है। उन्होंने जो प्रायोगिक उपकरण बनाया है, वह "आयन विंड" जेनरेटर है और वैज्ञानिकों के अनुसार, चिप कूलर की तुलना में 2-2.5 गुना बेहतर ठंडा करने में सक्षम है।



लेकिन वास्तव में, डिवाइस शीतलन के लिए उपयोग किए जाने वाले प्रशंसकों को प्रतिस्थापित नहीं करता है, लेकिन सामंजस्यपूर्ण रूप से उन्हें पूरक करता है। तथ्य यह है कि सरल कूलर हवा के अणुओं की गति को ठंडा चिप की सतह के करीब संभव नहीं प्रदान कर सकते हैं। डेवलपर्स के अनुसार, उनके आविष्कार की घटना इस तथ्य में निहित है कि यह हवा के प्रवाह को ठीक उसी स्थान पर बढ़ाती है जहां इसकी सबसे अधिक आवश्यकता होती है।



प्रयोगात्मक शीतलन उपकरण में नकारात्मक चार्ज कैथोड्स के एक सरणी से 10 मिलीमीटर स्थित एक सकारात्मक चार्ज एनोड होता है। जब एक हवा की धारा डिवाइस से गुजरती है, तो कैथोड एनोड के सामने इलेक्ट्रॉनों का निर्वहन करते हैं। इलेक्ट्रॉनों को हवा के अणुओं के साथ मिलाया जाता है, और इस प्रक्रिया में गठित आयनों को कैथोड में वापस फेंक दिया जाता है। अंत में, यह तथाकथित "आयनिक हवा" बनाता है, जो चिप को ठंडा करने वाली हवा के प्रवाह को बढ़ाता है।



हालाँकि इस समय तकनीक आशाजनक है, लेकिन वैज्ञानिक इसे बेहतर बनाने के लिए काम कर रहे हैं। विशेष रूप से, मिलीमीटर से माइक्रोन तक एनोड और कैथोड के बीच की दूरी को कम करने पर। जब यह सफल हो जाता है, तो आयन-पवन जनरेटर उपकरणों के प्रोटोटाइप को बाजार में लाया जा सकता है।



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